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    • 1 はじめに INTRODUCTION
    • 2 Si基板上への3C-SiCのCVD成長
    • 3 オフ基板上の成長
    • 4 成長層の電気的特性と不純物ドーピング
    • 5 3C-SiC成長層へのイオン注入とMOSFETへの応用
    • 6 6H-SiC(0001)上のCVD成長
    • 7 結 論 CONCLUSIONS
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半導体研究者の業績紹介サイト | 芝原 健太郎 (Kentaro Shibahara)site
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SiC半導体– category –

  • SiC半導体

    6H-SiC基板上へのSiC薄膜結晶成長

    Homohepiaxial growth of SiC Growth on 6H-SiC 動画目次 アチソン基板の斜め研磨方法 成長の温度プロファイル 境界層の反応種の輸送 基板上での吸着、脱離 pn接合の電流電圧特性 発行スペクトル 青色発光機構 これらの内容が貴重な写真や図で説明されてい...
    2026-01-19
  • SiC半導体

    「RHEED-基礎的理論とその応用例」研究会資料1986年10月22日

    京都大学で博士課程在籍中だった芝原が書いた研究会資料です。内容は、研究業績5)と関係が深いものです。 研究業績5)K. Shibahara, S. Nishino, and H. Matsunami, “Antiphase-domain-free growth of cubic SiC on Si(100)”, Appl. Phys. Lett., 50 (...
    2025-10-25
  • SiC半導体

    「Si基板上に成長させたβ-SiCに関する2,3の話題」研究会資料1986年4月30日

    京都大学で博士課程在籍中だった芝原が書いた研究会資料です。内容は、研究業績3)と5)と関係が深いものです。  3)K. Shibahara, T. Saito, S. Nishino, and H. Matsunami, “Fabrication of inversion-type n-channel MOSFETs using cubic SiC on S...
    2025-10-17
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