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    • 1 はじめに INTRODUCTION
    • 2 Si基板上への3C-SiCのCVD成長
    • 3 オフ基板上の成長
    • 4 成長層の電気的特性と不純物ドーピング
    • 5 3C-SiC成長層へのイオン注入とMOSFETへの応用
    • 6 6H-SiC(0001)上のCVD成長
    • 7 結 論 CONCLUSIONS
  • 研究業績
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半導体研究者の業績紹介サイト | 芝原 健太郎 (Kentaro Shibahara)site
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SiC半導体– category –

  • SiC半導体

    研究会資料「RHEED-基礎的理論とその応用例」1986年10月22日

    京都大学で博士課程在籍中だった芝原が書いた研究会資料です。内容は、研究業績5)と関係が深いものです。 研究業績5)K. Shibahara, S. Nishino, and H. Matsunami, “Antiphase-domain-free growth of cubic SiC on Si(100)”, Appl. Phys. Lett., 50 (...
    2025-10-25
  • SiC半導体

    研究会資料「Si基板上に成長させたβ-SiCに関する2,3の話題」1986年4月30日

    京都大学で博士課程在籍中だった芝原が書いた研究会資料です。内容は、研究業績3)と5)と関係が深いものです。  3)K. Shibahara, T. Saito, S. Nishino, and H. Matsunami, “Fabrication of inversion-type n-channel MOSFETs using cubic SiC on S...
    2025-10-17
  • SiC半導体

    Abstract “Step-Controlled VPE Growth of SiC Single Crystals at Low Temperatures”

    SSDM賞を受賞した上記ですが、画像とファイルとで掲載します。(応用物理学会による全文掲載許可有)(スマートフォンでは、ファイル形式のものは表示されないので、両方の形で掲載します。)  N. Kuroda, K. Shibahara, W. Yoo, S. Nishino, and H. Matsun...
    2025-09-09
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