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      • 2 Si基板上への3C-SiCのCVD成長
      • 3 オフ基板上の成長
      • 4 成長層の電気的特性と不純物ドーピング
      • 5 3C-SiC成長層へのイオン注入とMOSFETへの応用
      • 6 6H-SiC(0001)上のCVD成長
      • 7 結 論 CONCLUSIONS
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半導体研究者の業績紹介サイト | 芝原 健太郎 (Kentaro Shibahara)site
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    証言記録 ステップ制御エピタキシー 黒田尚孝氏と芝原健太郎の実現 黒田尚孝氏寄稿ステップ制御エピタキシー1は、SiCパワーデバイス2実用化を可能にした画期的な技術として広く知られています。黒田氏と芝原が、京都大学松波弘之教授の研究室で、議論や実...
    2025-12-14
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    2025-11-01
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    2025-09-05
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    2025-09-02
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    本書の監訳は、原著者Taur氏と芝原健太郎との対話から始まりました。その経緯や刊行までの歩み、そして各界からの反響をご紹介します。This Japanese edition grew out of a series of discussions between the author, Mr. Taur, and Kentaro Shibahara. ...
    2025-08-27
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