学術・産業界における主な活動(Kentaro Shibahara: Major Professional Activities)

芝原健太郎は、半導体分野の先駆的な研究と主要な国際学会への貢献を通じて、その発展に尽力しました。
2011年4月に逝去の際には、これまでの多大な貢献と功績を称え、同年のVLSIシンポジウム
1開会式冒頭において、特別な追悼セッションが設けられました。

国際的な活動

  • IEDM2 (International Electron Devices Meeting): Program Committee Member, Process Technology Subcommittee (2008–2011)
  • Symposium on VLSI Technology3: Symposia Officer / Program Committee Member
  • SSDM4 (International Conference on Solid State Devices and Materials): Chair of Area 35 (2004–2007) / Cochair (2008) / Editor of the Special Issue for JJAP (2009) / Editorial Committee Member 
  • ITRS6 (International Technology Roadmap for Semiconductors/ 国際半導体技術ロードマップ): WG6 PIDS Special Committee Member(ITRS WG6 PIDS 特別委員)
  • VLSI-TSA7 (International Symposium on VLSI Technology, Systems, and Applications): Technical Program Committee Member (2006–2011)
  • IWJT 8(International Workshop on Junction Technology): Advisory / Steering Committee Member
     

国内での活動


[→プロフィール]/[]/ [研究業績紹介(SiC)] / [研究業績紹介(Si)] / [研究業績] / [出版] / [受賞] / [”タウア・ニン”監訳エピソード]

  1. VLSIシンポジウム:
    米国の「IEDM」と並び、先端半導体デバイス・プロセス技術を扱う主要な国際会議。世界中の企業や大学、研究機関が成果を発表する。 ↩︎
  2. IEDM:IEEEが主催する半導体デバイス分野の主要な国際会議の一つ。同分野で最も長い歴史を持ち、世界中の企業や大学が最先端の成果を発表する場で、毎年12月に米国で開催される。Process Technology Subcommitteeは半導体プロセス技術分野を担当し、Program Committee Member は投稿論文の審査・採否、セッション構成など技術プログラムの編成に関わる。芝原は2008年から2011年まで同委員を務め、2011年の逝去まで活動を続けた。 ↩︎
  3. Symposium on VLSI Technology:VLSIシンポジウム。先端半導体デバイス・プロセス技術を扱う主要な国際会議。芝原はProgram Committee Memberとして論文審査・プログラム編成に関わり、Symposia Officerとして会議運営も担った。 ↩︎
  4. SSDM:半導体デバイス・材料分野の主要な国際会議。Area 3はCMOSデバイス・プロセス関連分野を担当し、委員長・責任者にあたるChairは、投稿論文の審査や採否、セッション構成など、その分野の技術プログラム編成を主導する役割。芝原は2004~2007年にChair、2008年にCochairを務め、2009年にはJJAP特集号のEditorも担当した。. ↩︎
  5. Chair:Chair of the CMOS Devices / Device Physics Subcommittee ↩︎
  6. ITRS(International Technology Roadmap for Semiconductors/国際半導体技術ロードマップ)・・・世界の半導体産業・研究機関の専門家が、将来の半導体技術に必要となる性能目標や技術課題を検討し、国際的なロードマップとしてまとめたもの。芝原は日本側のWG6 PIDS(Process Integration and Device Structures:プロセス・インテグレーション/デバイス構造)Special Committee Memberとして、将来のCMOSデバイスやプロセス技術に関する検討に参加した。ITRSは2015年まで刊行され、その後はIEEEのIRDSに引き継がれた。 ↩︎
  7. VLSI-TSA:台湾で開催されるVLSI・半導体技術の国際シンポジウム。Technical Program Committee Member は、論文審査やセッション構成など、技術プログラムの編成に関わる委員。芝原は2006年から2011年まで同委員を務め、2011年の逝去まで活動を続けた。 ↩︎
  8. IWJT(International Workshop on Junction Technology):半導体デバイスの接合形成技術を中心に、イオン注入、活性化、極浅接合、熱処理などの先端プロセス技術を扱う国際ワークショップ。Advisory / Steering Committee Member は、会議の運営方針や技術プログラムの企画・継続的な発展に関わる委員。芝原は同委員として、接合技術分野の国際的な研究交流と会議運営に携わった。 ↩︎
  9. 日本学術振興会(JSPS)第165委員会「超集積デバイス・システム」:大学・企業の研究者が連携し、超高集積半導体デバイスやシステムに関する先端技術・研究課題を検討する産学協力の委員会。委員は、研究動向や将来課題についての議論、研究交流、技術情報の共有などに参加する。芝原は同委員会の委員として活動した。 ↩︎
  10. 応用物理学会(JSAP)代議員:学会の運営に関する重要事項を審議する代表者。芝原は2008年から2011年の逝去まで代議員を務め、学会運営に関わった。 ↩︎
  11. 応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会:シリコン半導体の材料・プロセス・デバイス技術に関する研究交流を行う専門分科会。幹事は、研究会や講演会などの企画・運営、分科会活動の実務を担う役割。芝原は2005~2006年に幹事を務めた。 ↩︎
  12. 新機能素子研究開発協会(FED)量子機能素子技術動向調査委員会:次世代の電子デバイスや量子機能素子に関する技術動向を調査・検討する委員会。芝原は同委員として、将来のデバイス技術に関する調査・議論に参加した。 ↩︎

Additional Record
2004 — Symposium on VLSI Technology, Session 5 “Advanced Transistor Technology I,” Co-Chairperson.

編集履歴:2025年作製、2026年英語ページ作製、6月文章追加 7月役職追加、リンク追加、脚注追加、8月応用物理学会評議員の誤記を代議員に修正、9月注釈追加