『タウア・ニン最新VLSIの基礎』監訳の背景・エピソードと各界からの評価 Background, Editorial Insights, and Reception of the Japanese Translation of Fundamentals of Modern VLSI Devices
『タウア・ニン最新VLSIの基礎』監訳の背景・エピソードと各界からの評価 Background, Editorial Insights, and Reception of the Japanese Translation of Fundamentals of Modern VLSI Devices
本書の監訳は、原著者Taur氏と芝原健太郎との対話から始まりました。その経緯や刊行までの歩み、そして各界からの反響をご紹介します。 This Japanese edition grew out of a series of discussions between the author, Mr. Taur, and Kentaro Shibahara. Here we share the background, the path to the second edition, and its reception.
『タウア・ニン最新VLSIの基礎(第1版)』表紙(2002年、丸善出版)※ Fundamentals of Modern VLSI Devices (1st ed., 2002, Maruzen)
『タウア・ニン最新VLSIの基礎(第2版)』表紙(2013年、丸善出版)※ Fundamentals of Modern VLSI Devices (2nd ed., 2013, Maruzen)
タウア氏との対話から始まった監訳 Origin: Dialogue with the Author, Yuan Taur
松波 弘之 京都大学名誉教授 Hiroyuki Matsunami, Professor Emeritus, Kyoto University(追悼文集より / From the Memorial Collection) (芝原君は)2002年秋に、丸善から、『タウア・ニン 最新VLSIの基礎』(Yuan Taur and Tak H. Ning 著)芝原 健太郎 監訳 A5判・並製・610ページを出版した。5人が翻訳にかかわり、その監修であるから途轍もなくたいへんな作業であったことと想像する。 ディープサブミクロン VLSI デバイスにとって、特に重要なパラメータや性能要因に重点をおきながら、最新の CMOS (Complementary MOS)やバイポーラの基礎を解説しており、米国の有名大学の大学院1年次の教科書として使われているとのことであった。 2002年9月頃の mail から、彼の発したメッセージを記す。 >松波先生 広島大 芝原です。構想から 2 年以上の時間がかかったのですが、下記訳書を出版することができました。研究成果よりはもう少し何かしら世の中に広く役立ち、形に残る仕事がしたいと思い始めたものです。
西田 征男 様(広島大学大学院 博士課程修了) Y. Nishida, Ph.D., Hiroshima University Graduate School 私は現在、企業で半導体素子開発に携わっておりますが、先生が翻訳された「タウア・ニン最新VLSIの基礎」は半導体素子の理論を学ぼうとする者に広く普及しており、非常に大きな業績だと思います。 先生は「研究成果よりはもう少し何かしら世の中に広く役立ち、形に残る仕事がしたい」とおっしゃっていたとありますが、日本の半導体産業の人材育成に多大な貢献をされたのは確かなので、先生の望まれた通りの成果が得られていると思います。
加藤 正史 名古屋工業大学 教授 M. Kato, Professor, Nagoya Institute of Technology 芝原先生が翻訳されたタウア・ニンの第二版は、持っていて、今日も見ていました。直接のご面識はないのですが、芝原先生の業績は後世にも継がれていることを、(遺族に)お伝えください。
企業在籍の研究者・技術者様 Researcher and Engineer in the semiconductor industry 私達の世代ではSzeの教科書でデバイス物理を学びましたが、同じような内容をより現代的な視点で学ぶことができる本だと思います。最近では大学院の講義用テキストとして選ばれることも多く、後輩の東北大学出身の後輩もこれを使ったと言っていました。今からデバイスの勉強をするならSzeよりタウア・ニンだと思います。 訳を分担した東工大の宮本恭幸先生は、化合物半導体の先生で、もう20年以上もお付き合いしてきました。この本も技術の進歩に合わせてアップデートされ、第3版ではFinFETなどの先端半導体についての内容も記載されているようです。 世界中で読まれているこんなにいい本を日本の半導体技術者が日本語で読めるようにしていただけたのは、大変有り難いことだと思います。
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